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Résine échangeuse d'ions mixte AmberTec™ UP6040 H/OH pour eau ultra-pure avec une résistivité de 18 MΩ*cm et une faible contribution TOC
Détails sur le produit:
| Lieu d'origine: | Chine |
| Nom de marque: | Dupont |
| Certification: | ISO 9001 |
| Numéro de modèle: | DUPONT ™ Ambertec ™ UP6040 H / OH |
Conditions de paiement et expédition:
| Quantité de commande min: | 1 ensemble |
|---|---|
| Prix: | négociable |
| Détails d'emballage: | Caisse/carton en bois d'exportation standard ou nu enveloppé par un film |
| Délai de livraison: | 7 jours ouvrables |
| Conditions de paiement: | T / T, Western Union, Paypal, etc. |
| Capacité d'approvisionnement: | 60000 unités par mois |
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Détail Infomation |
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| Copolymère: | Styrène-divinylbenzène | Matrice: | Gel |
|---|---|---|---|
| Taper: | Cation acide fort | Groupe fonctionnel: | Acide sulfonique |
| Forme physique: | Perles sphériques ambrées foncées, translucides | ||
| Mettre en évidence: | Résine échangeuse d'ions à lit mixte de résistivité de 18 MΩ*cm,Résine de polissage à l'eau ultra pure à faible contribution de COT,Résine cationique acide fort Résine échangeuse d'ions H/OH |
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Description de produit
LeAmberTecTM UP6040 Résine mixte H/OH d'échange d'ionsest une résine de déionisation mixte de qualité supérieure conçue pour des applications de polissage final dans des systèmes de traitement d'eau ultrapure (UPW).Combinaison de résine cationnelle acide forte de grande capacité sous forme de H+ et de résine anionique de base forte sous forme de OH−, cette résine de lit mixte entièrement régénérée offre des performances d'élimination ionique exceptionnelles et contribue à atteindre une qualité de l'eau à résistivité ultra-haute.
Conçu pour les industries exigeantes nécessitant une eau extrêmement propre, AmberTecTM UP6040 H/OH offre des performances de polissage stables avec une très faible fuite ionique et une libération organique contrôlée.Il est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, la production photovoltaïque, les systèmes d'eau pharmaceutiques, la purification des laboratoires et les installations de production d'énergie.
La résine est optimisée pour être utilisée après osmose inverse (RO), électrodéionisation (EDI) ou autres processus de déionisation où une amélioration finale de la qualité de l'eau est requise.
Conçus pour la purification en phase finale:
- Produit une qualité de l'eau jusqu'à:Résistance de 18 MΩ·cm
- Faible débit ionique
- Faible contribution du TOC
- Convient pour les applications critiques de l'UPW
Le système de résine combine:
- Forme ionique: H+
- Haute capacité de change
- Élimination efficace des ions chargés positivement
- Forme ionique: OH−
- Hydroxyde de haute pureté
- Élimination efficace des ions chargés négativement
Ensemble, ils assurent une élimination continue des ions et une performance de polissage de haute qualité.
- Eau de nettoyage des gaufres
- Eau de procédé ultrapure
- Fabrication de produits électroniques
- Eau de production de haute pureté
- Processus de fabrication de cellules
- Systèmes d'eau purifiée
- Eau de laboratoire de haute pureté
- Traitement des eaux de procédés critiques
- Polissage de l'eau d'alimentation des chaudières
- Systèmes d'eau en circulation de haute pureté
- Les appareils pour le polissage des lits mixtes
- Systèmes de déionisation des lits emballés
- Cartouches de résine remplaçables
- Systèmes portables de désionisation par échange
- Boucles de circulation d'eau de haute pureté
| Les biens immobiliers | Résine cationique | Résine anionique |
|---|---|---|
| Structure du polymère | Styrène DVB | Styrène DVB |
| Type de matrice | Gels | Gels |
| Groupe fonctionnel | Acide sulfonique | Triméthylammonium |
| Type de résine | Cation acide fort | Anions à base forte de type I |
| Forme ionique | H+ | Je ne sais pas. |
| Capacité de change totale | ≥ 2,00 éq/l | ≥ 1,10 éq/L |
| Capacité de rétention d'eau | 45 à 51% | 54 à 60% |
| Conversion ionique | ≥ 99% de H+ | ≥ 95% de l'OH− |
| Paramètre | Résine cationique | Résine anionique |
|---|---|---|
| Diamètre des particules | 525 ± 50 μm | 630 ± 50 μm |
| Coefficient d'uniformité | ≤ 120 | ≤ 120 |
| Particules fines | ≤ 0,1% (< 300 μm) | - Je ne sais pas. |
| Les particules de grande taille | ≤ 5,0% (> 850 μm) | - Je ne sais pas. |
| Paramètre | Valeur typique |
|---|---|
| Résistance au rinçage UPW (10 min) | ≥ 18 MΩ·cm |
| Résistance au sel (10 min) | ≥ 18 MΩ·cm |
| ΔTOC après rinçage | ≤ 3 ppb C |
| Paramètre | Portée |
|---|---|
| Température de fonctionnement | 15 à 25°C |
| Plage de pH stable | 0 à 14 |
| Poids de transport | Environ 710 g/l |
Chaque lot de production est évalué au moyen de procédures strictes de contrôle de la qualité, notamment:
- Test de résistance par rinçage
- Épreuves de performance du TOC
- Vérification des performances cinétiques
Cela garantit une qualité de résine constante pour des applications d'eau ultrapure exigeantes.
Les produits chimiques fortement oxydants peuvent endommager les matières résineuses d'échange ionique dans certaines conditions.
Les utilisateurs doivent examiner la documentation de sécurité pertinente et suivre les procédures de manutention recommandées afin d'assurer des performances de résine sûres et fiables.
Avec une efficacité d'échange élevée, une faible libération organique et une excellente capacité de polissage,AmberTecTM UP6040 H/OH fournit une solution fiable pour les industries nécessitant une production d'eau ultrapure stable et de haute qualité.
